技术规格及参数 | 1、底盘结构
1.1 采用铝型材搭建或焊接式框架，外观要求氧化处理或喷漆。
1.2 底部带有轮子，可推动，并带有可调节高度的支脚。
1.3 带有机械旋转手臂，有多角度调节操作界面。
2、基片架结构
2.1一个220mm×220mm的基片托盘，可负载8英寸及以下基片，每个腔体1套，共2套。
2.2电机驱动实现连续旋转，最大转速可达20转/分钟，通过磁流体与基片托盘连接。
2.3每套腔体配有二个电动控制挡板。
3、溅射源
3.1 共4组磁控溅射源，2套直流电源、2组射频溅射电源，其中射频电源内置有匹配器，可溅射常见金属及金属氧化物材料。
3.2 每套腔体2个（2套合计4个）2英寸靶头，每个溅射靶头均采用水冷式结构，以便可以长时间溅射。
3.3 溅射靶头角度可调节。
3.4 直流电源溅射：0-400V；射频溅射电源功率0-300W。
4、自动化控制软件
4.1 采用触摸屏控制模式，相关的操作均在触摸屏界面完成。
4.2 控制软件高集成，触控界面可实现对机械泵、分子泵、真空阀、放气阀阀门、托盘转速等精确控制切换。
4.3 屏幕实时监测并显示分子泵状态、膜厚、温度、真空度、镀膜厚度、晶振寿命。
4.4 带有一键自动溅射功能，对于常用镀膜材料，如单质金属、单气路溅射，软件设置好所有材料的相关参数，即可完成抽真空，电机旋转，开关挡板，溅射镀膜等所有动作。
5、膜厚控制系统
5.1 共2个标准晶振传感器，均为水冷式。
5.2 晶振探头，膜厚仪探测参数可以实现显示在控制屏幕界面，可显示晶振片寿命数据。
5.3 膜厚速率显示精度在0.1nm/S。以Ag为例，100nm，膜厚不均匀性≤5%。
6、真空室
6.1 真空室由不锈钢制成，尺寸≥420mm×400mm×450mm，装有基础结构和挡板的固定装置，以及溅射靶头、真空泵、样品盘等装置。
6.2 真空腔体配备两个可以完全打开的门，前门为平移门，通过与直线导轨，滑块等装置连接，可使前门左右开启与关闭，在手套箱内部操作前门开关,确保整个工作环境处于氮气或惰性气体氛围中，配备2个观察窗；后门为旋转门，通过旋转轴实现后门的开关，开启后腔体内部完全暴露在空气中，主要的目的为方便维护，并配2个观察窗。
6.3 腔体极限真空≤7×10-5pa，从常压到5×10-3pa不超过15min（氮气）。
7、真空系统
7.1 前级泵的抽速≥24m3/h。
7.2 主泵采用抽速≥600L/s的分子泵。
7.3 主泵和腔室之间安装有电动蝶阀，通径≥100mm。
7.4 自动抽气控制。
7.5 配有前级管路阀门及阀门连接件。
7.6 真空室配真空计，测量范围为大气至1*10-5pa。
8、惰性氛围箱体
8.1 共1个不锈钢箱体，尺寸分别为≥4500mm（长）×750mm（宽）【匹配磁控溅射镀膜机部分300mm宽】×900mm（高），材质为SUS304不锈钢，厚度≥3mm。
8.2 共两个可拆卸的安全玻璃视窗，倾斜设计的操作面，钢化玻璃厚度≥8mm，视窗与箱体之间的密封使用的双层无泄漏密封技术。
8.3 整个箱体泄漏率(0.02Vol%/h)，H2O＜1ppm，O2＜1ppm。
8.4 高效气体纯化系统：氧气和水的吸附量分别为≥120L和≥4kg，吸附饱和后可再生。
8.5 配有箱体背部预留对接口四个，其中两个分别对接磁控溅射镀膜机A段和B段，另外两个预留备用。
8.6 真空泵2台：流量≥12m3/h，配有油污过滤器。
8.7 氧分析仪2台：燃料电池探头，测量范围：0-1000ppm，精度0.2ppm，允许偏差范围-0.1ppm～0.1ppm。
8.8 水分析仪2台：氧化铝探头，测量范围：20℃到-100℃，精度2℃，允许偏差范围-1℃～1℃。
8.9 设备可与实验室其他手套箱设备对接整合，原设备T型腔室尺寸为900*700（上宽）750（下宽），包括T型腔室法兰的切割、切割后磨平与重新焊接，承担全部对接整合及安装调试的一切费用，并保证对接后的气密性。
9.所响应产品必须是全新、未使用过的原装合格正品（包括零部件），如安装或配置了软件的，须为正版软件。 |